삼성, 시스템반도체 133조 투자... "비메모리도 세계 1위"
상태바
삼성, 시스템반도체 133조 투자... "비메모리도 세계 1위"
  • 유경표 기자
  • 승인 2019.04.24 17:02
  • 댓글 0
이 기사를 공유합니다

2030년까지 시스템 반도체 분야에 총 133조원 투자, 전문인력 1만 5000명 채용
국내 팹리스 업체 지원 통한 반도체 업계와의 '상생협력' 방안도 담겨
화성캠퍼스 EUV 라인 전경. 사진=삼성전자

삼성전자가 시스템반도체 부문 육성에 사활을 걸었다. 메모리 반도체 분야 글로벌 1위 자리를 지키고 있는 삼성전자는 시스템 반도체 분야에서도 선두업체로 발돋움한다는 목표다.

24일 삼성전자는 오는 2030년까지 시스템 반도체 분야 연구개발 및 생산시설 확충에 총 133조원을 투자하고, 전문인력 1만 5000명을 채용한다는 내용의 '반도체 비전 2030'을 발표했다. 

여기에는 시스템 반도체 인프라와 기술력을 공유해 팹리스(반도체 설계 전문업체), 디자인하우스(설계 서비스 기업) 등 국내 시스템 반도체 생태계 경쟁력 강화 방안도 담겼다. 

우선, 삼성전자는 시스템 반도체 사업경쟁력 강화를 위해 2030년까지 국내 R&D 분야에 73조원, 최첨단 생산 인프라에 60조원을 투자할 계획이다. 이는 국내 시스템 반도체 연구개발 인력 양성에도 기여할 것으로 보인다. 

삼성전자는 "향후 화성캠퍼스 신규 EUV라인을 활용해 생산량을 증대하고, 국내 신규 라인 투자도 지속 추진할 계획"이라며 "기술경쟁력 강화를 위해 시스템 반도체 R&D 및 제조 전문인력 1만 5천명을 채용할 것"이라고 밝혔다.

이 같은 계획이 현실화되면 2030년까지 연평균 11조원의 R&D 및 시설투자가 집행되고, 생산량이 증가함에 따라 42만명의 간접 고용유발 효과가 발생할 것으로 전망된다.

◆ 국내 중소 반도체업체 협력 통해 국가 시스템 반도체 산업생태계 강화

삼성전자는 국내 팹리스 업체를 지원하는 등 상생협력을 통한 한국 시스템 반도체 산업생태계 강화에도 적극 나선다. 

이를 위해 국내 중소 팹리스 고객들이 제품 경쟁력을 강화하고 개발기간도 단축할 수 있도록 인터페이스IP, 아날로그 IP, 시큐리티(Security) IP 등 삼성전자가 개발한 IP(설계자산)를 호혜적으로 지원한다는 계획이다.  보다 효과적으로 제품을 개발할 수 있도록 삼성전자가 개발한 설계/불량 분석 툴(Tool) 및 소프트웨어 등도 지원한다.

기존에는 소품종 대량생산 체제인 메모리 반도체와 달리 다품종 소량생산이 특징인 시스템 반도체 분야의 국내 중소 팹리스업체는 지금까지 수준 높은 파운드리 서비스를 활용하는데 어려움이 있었다.

삼성전자는 이러한 어려움을 해소하기 위해 반도체 위탁생산 물량 기준도 완화해, 국내 중소 팹리스업체의 소량제품 생산을 적극적으로 지원할 것이라고 설명했다. 

아울러 국내 중소 팹리스 업체의 개발활동에 필수적인 MPW(Multi-Project Wafer)프로그램을 공정당 년 2~3회로 확대 운영하고 삼성전자는 국내 디자인하우스 업체와의 외주협력도 확대해 나갈 계획이다.

한편, 삼성전자는 올해 초 업계 최초 EUV 공정을 적용한 7나노 제품 양산을 시작으로, 5나노 공정 개발에도 성공하면서 글로벌 파운드리 시장에서 주도권을 잡는다는 전략이다.  차세대 '5나노 공정'은 7나노 공정 대비 로직 면적을 25% 줄일 수 있으며, 20% 향상된 전력 효율 또는 10% 향상된 성능을 제공한다.

신공정 생산라인 확충에도 과감한 투자를 아끼지 않고 있다. 삼성전자는 최신 파운드리 생산시설인 화성캠퍼스 S3 라인에서 EUV 기반 최첨단 공정 제품을 생산 중이다. 현재 건설 중인 화성캠퍼스 EUV 전용 라인은 내년부터 본격 가동에 들어간다. 
 


주요기사
이슈포토